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医用空气消毒机影响光催化活性的因素
在实际应用中半导体具有较好的光催化活性，一个非常重要的指标是光催化效率。光催化降解效率受很多因素影响不仅与光强、溶液的值、温度、溶液中的杂质等外界的一些因素有关，而且与氧含量自身的晶体结构、表面缺陷等有关。
晶体结构
�、傩矶嗍笛楸砻�，纯金红石型光催化活性比纯锐钛矿型低。有研究认为】，较纯金红石更易吸附光和氧气的锐铁矿型，能聚集较多的导带）和价带）在其表面，有机物的氧化更有利，可能锐钛矿比金红石略高的导带还原电位也是其光催化活性较高的原因之一。而金红石型表面缺陷较少，其产生的光生电子和空穴较易复合，不利于氧气和光的吸附表现的光催化活性就会相对较低。此外研究显示锐钛矿与金红石的混晶（非机械混合）具博士学位论文部分
医用空气消毒机有较高的催化活性。由于晶体结构的不同，锐铁矿晶体表面生长了薄的金红石结晶层能有效地促进锐铁矿晶体中的空穴和光生电子的分离。
�、�医用空气消毒机在自然界中晶格缺陷充美的晶体是不存在的或多或少存在着晶格缺陷。通常认为，晶格缺陷能够成为催化剂的活性中心，对光催化反应有利，然而过多的晶格缺陷也会成为电子空穴复合中心降低光催化活性。
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